+7 (812) 645-08-06
Машины покрытием cvd
Выбор производителя
Отложение ССЗ машина тонкой пленки высокой темп AltaCVD®
AltaCVD высокотемпературный® выполняет HTCVD осаждения широко используется в производстве полупроводников, МЭМС и СИД. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована самостоятельных...
Отложение ССЗ машина тонкой пленки высокой темп AltaCVD®
AltaCVD высокотемпературный® выполняет HTCVD осаждения широко используется в производстве полупроводников, МЭМС и СИД. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована самостоятельных...
Мос-гидридная эпитаксия осаждение машина / тонкой пленки AltaCVD современных материалов®
AltaCVD современных материалов® выполняет импульсного осаждения методом Мос-гидридной эпитаксии/АЛД обыкновенно используемые в производстве полупроводников, светодиодов, МЭМС. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована отдельно или в сочетании с нашей инновационной AltaCVD® камер.
Процессы
Процессы были тщательно...
Процессы
Процессы были тщательно...
Мос-гидридная эпитаксия осаждение машина / тонкой пленки AltaCVD современных материалов®
AltaCVD современных материалов® выполняет импульсного осаждения методом Мос-гидридной эпитаксии/АЛД обыкновенно используемые в производстве полупроводников, светодиодов, МЭМС. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована отдельно или в сочетании с нашей инновационной AltaCVD® камер.
Процессы
Процессы были тщательно...
Процессы
Процессы были тщательно...
Осаждение ПХО машина / вакуум - AltaCVD Силана®
AltaCVD Силана® выполняет осаждения ПХО широко используется в производстве полупроводников, светодиодов, МЭМС и солнечных батарей. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована отдельно или в сочетании с...
Осаждение ПХО машина / вакуум - AltaCVD Силана®
AltaCVD Силана® выполняет осаждения ПХО широко используется в производстве полупроводников, светодиодов, МЭМС и солнечных батарей. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована отдельно или в сочетании с...
Осаждение ПХО машина / вакуум - AltaCVD Теос®
AltaCVD Теос® выполняет методом плазмохимического осаждения и осаждения HPCVD часто используемые в производстве полупроводников, МЭМС и СИД. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована отдельно или в сочетании с нашей инновационных изменениях AltaCVD®...
Осаждение ПХО машина / вакуум - AltaCVD Теос®
AltaCVD Теос® выполняет методом плазмохимического осаждения и осаждения HPCVD часто используемые в производстве полупроводников, МЭМС и СИД. Это гибкая и эффективная система, которая может быть использована отдельно или в сочетании с нашей инновационных изменениях AltaCVD®...
Отложение ССЗ машина тонкой пленки ICPCVD СИ 500 г
Средство рост Si 500 D плазма представляет собой самую передовую для плазмохимического осаждения диэлектрических пленок, а-Си, Зю, и других материалов. Он основан на ПЦА плазменного источника, разделенных газовых вводов для реакции газов, динамическим контролем температуры подложки электрода, полностью контролируемый вакуум...
Отложение ССЗ машина тонкой пленки ICPCVD СИ 500 г
Средство рост Si 500 D плазма представляет собой самую передовую для плазмохимического осаждения диэлектрических пленок, а-Си, Зю, и других материалов. Он основан на ПЦА плазменного источника, разделенных газовых вводов для реакции газов, динамическим контролем температуры подложки электрода, полностью контролируемый вакуум...
Отложение ССЗ машина / тонкой пленки ПХО СИ 500 ППД
СИ 500 ППД представляет собой продвинутый инструмент для плазмохимического осаждения диэлектрических пленок, а‑Си, Зю, и других материалов. Он основан на плоскостной емкостный связанной плазмой источника вакуума loadlock, контролем температуры подложки электрода, дополнительно доступны низкой частоты перемешивания, полностью...
Отложение ССЗ машина / тонкой пленки ПХО СИ 500 ППД
СИ 500 ППД представляет собой продвинутый инструмент для плазмохимического осаждения диэлектрических пленок, а‑Си, Зю, и других материалов. Он основан на плоскостной емкостный связанной плазмой источника вакуума loadlock, контролем температуры подложки электрода, дополнительно доступны низкой частоты перемешивания, полностью...
Отложение ССЗ машина тонкой пленки методом Depolab 200
Depolab 200 является базовой для усиленного плазмой химического осаждения инструмент (ПХО) от компании sentech сочетает в себе преимущества параллельных пластин конструкция электрода для равномерного осаждения пленки с экономичной конструкции прямого нагружения. Начиная с стандартных приложений от 2 до 8 вафель и...
Отложение ССЗ машина тонкой пленки методом Depolab 200
Depolab 200 является базовой для усиленного плазмой химического осаждения инструмент (ПХО) от компании sentech сочетает в себе преимущества параллельных пластин конструкция электрода для равномерного осаждения пленки с экономичной конструкции прямого нагружения. Начиная с стандартных приложений от 2 до 8 вафель и...